氖气的使用
目前氖气最重要的用途是被用于紫外 (UV) 激光器,又被称为准分子激光器。 术语受激准分子是激发二聚体的缩写。 这种激光特别适用于在数百纳米范围内进行干净,精确的切割。 由于紫外线激光不产生热量,因此不会造成结疤,所以在激光眼科手术(LASIK)中十分流行。 在半导体制造中,它用于光刻。 因为它的波长太短,所以可以在晶片芯片中形成低至 193 纳米的图案。
空气产品公司的激光预混共混物由高活性,毒性及腐蚀性材料组成,如氟和氙。 创造准确,稳定的激光预混料对于确保稳定的激光输出,从而获得最佳,可重复的结果,非常重要。 同样重要的是确保安全,以免杂质与组分发生反应而形成危险气体,如氟化氢。
空气产品公司的激光预混共混物由高活性,毒性及腐蚀性材料组成,如氟和氙。 创造准确,稳定的激光预混料对于确保稳定的激光输出,从而获得最佳,可重复的结果,非常重要。 同样重要的是确保安全,以免杂质与组分发生反应而形成危险气体,如氟化氢。
稀有气体
稀有气体,也称为惰性气体,是人类已知的最惰性,不易反应的元素。 它们在环境中的浓度极低,由空气分离装置(ASU)制造。 由于其独特的化学性质,专家们发现它们具有十分新颖且有趣的应用。
半导体和存储芯片制造用氙气
氙气在半导体制造工艺中用于微芯片的刻蚀和沉积,既可用作气氛和等离子体,又可用作刻蚀和沉积工艺的离子束源。 此工艺中使用的氙气必须非常纯净,因为任何杂质最终都会污染硅衬底或与工艺化学品(如氟)发生反应,从而产生有毒的高腐蚀性氟化氢(HF)。 作为电子行业气体产品和服务领域的全球领导者,空气产品公司的氙气产品由我们最先进的电子级工厂生产,以获得更好的质量保证。 可用于准分子激光,激光缓冲气体,DRAM 和 3D NAND 及等离子显示面板的刻蚀。
99.9999%及其他超高纯度气体,满足您的需求
从大型空气分离设备到超高纯度 6.0 级气体,空气产品公司都能满足您的需求。